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标题: 【题目】看看这个阵列该怎么做!!! [打印本页]

作者: ganjfeng 时间: 2002-4-4 10:18
标题: 【题目】看看这个阵列该怎么做!!!
请用阵列做!!!

作者: ganjfeng 时间: 2002-4-4 10:22
图2!

作者: 孤独飘 时间: 2002-4-4 11:47
我也想知道
那位兄台说明一下

作者: ywy 时间: 2002-4-4 11:59
是这样吗？

(关键是在做要pattern的特征中
尺寸一定要有与基准面的角度
这样才能pattern)

作者: ganjfeng 时间: 2002-4-4 13:18
ywy!!全对,但可以用参考点的方法吗!

作者: ganjfeng 时间: 2002-4-4 13:49
ywy!我按你的方法做出阵列但好象切线不是聚在圆心，你做
的是吗？

作者: ywy 时间: 2002-4-4 14:39
你指的切线是什么来的？

还有一种方法也行
1.做出要pattern的特征
2.在主特征中心画一条轴线
3.用surface－transforn－copy沿轴线旋转15度复制出另一新特征
4.用新特征pattern，选15度尺寸进行pattern出另外10个特征
5.完成
这种transform方法可以大量减少零件的特征数量及regenerate的时间

作者: 水里的雨 时间: 2002-4-4 14:40
我也做了一下，可是做不出来呀，你们的参考角是怎么设定的

作者: wysunny 时间: 2002-4-4 14:55
我的做法是在做第一个凸起特征的扫描轨迹曲线时就用一个有角度的面来产生，这样就直接有了参考角度：

作者: 水里的雨 时间: 2002-4-4 15:01
传我的part上去，哪位高手帮个忙，谢了

作者: wysunny 时间: 2002-4-4 15:15
水里的雨 :

你好，看了你做的PART，你所做的偏距特征的尺寸太小，因为按你定义的方法，在阵列时旋转角度后就跑到原实体内部去了，只要把你做的偏距SKETCH中的长方形长边改到400即可顺利生成阵列：

看图:

作者: wysunny 时间: 2002-4-4 15:24
水里的雨做凸起用偏距的做法比我用混成扫描的方法还要快捷呢，再做一个：

作者: ganjfeng 时间: 2002-4-4 17:14
但我的要求是能沿椭圆曲线均布阵列,能做吗?

作者: chenalbert 时间: 2002-4-4 18:12
是这样吗？用曲面做一个，用旋转copy一个，再patter!
ok!

作者: tb 时间: 2002-4-4 18:25
题目！~~
  这样有怎么pattern
  

作者: wysunny 时间: 2002-4-4 18:40
ganjfeng 想要求沿椭圆曲线均布等长度的阵列，也是一样做的，只是要先要在CURVE上以等比标记做参考点，然后以该点为参考做第一个特征，然后再把该点及特征做组（GROUP），再对此组做阵列即可，下图即是以等长做的阵列，与上面以等角做的阵列是不同的：

作者: ganjfeng 时间: 2002-4-4 18:54
完全符合！！强烈建议帮主给wysunny加分，兄弟，我也是这样做，但我做不出能给个PART文件吗？
ganjfeng@yahoo.com.cn
thank you!

作者: tb 时间: 2002-4-4 19:06

wysunny wrote:
水里的雨 :

你好，看了你做的PART，你所做的偏距特征的尺寸太小，因为按你定义的方法，在阵列时旋转角度后就跑到原实体内部去了，只要把你做的偏距SKETCH中的长方形长边改到400即可顺利生成阵列：

看图:

虽然我做出来，但是不明白你的意思，我总是不清楚为什么会跑到原来那里的

作者: wysunny 时间: 2002-4-4 19:07
为减小文件，我把部份特征SUPRESS了，你记得RESUME即可：

作者: wysunny 时间: 2002-4-4 19:15

tb wrote:
虽然我做出来，但是不明白你的意思，我总是不清楚为什么会跑到原来那里的

看下图应该就比较明白了，你试着做6个阵列，再MODIFY尺寸看看，是不是跑到里面去了，与尺寸定义方式有关，其实不用他那种定义方法就不存在这种问题。

作者: tb 时间: 2002-4-4 20:11
还是用点，然后group,然后pattern 好

作者: tb 时间: 2002-4-4 20:19
2

作者: 孤独飘 时间: 2002-4-5 10:18
有一个问题
在用WY兄的方法时，只能有90度。不能一周
WHY？
帮帮小弟

作者: 水里的雨 时间: 2002-4-5 12:27
wysunny,谢了，我现在就试试。。。

作者: 水里的雨 时间: 2002-4-5 14:24
多谢了。

作者: 孤峰醉酒 时间: 2002-4-5 17:08

ganjfeng wrote:
完全符合！！强烈建议帮主给wysunny加分，兄弟，我也是这样做，但我做不出能给个PART文件吗？
ganjfeng@yahoo.com.cn
thank you!

以前有很多题目都是用这个方法做的

https://www.idesign2002.com/cgi-bin/ut/topic_show.cgi?id=247&h=1&bpg=1&age=0

https://www.idesign2002.com/cgi-bin/ut/topic_show.cgi?id=1145&h=1&bpg=1&age=-1

仔细研究一下这些题目，答案就会有了。

作者: ajiu 时间: 2002-4-9 12:10
搞了一个下午终于把这个pattern研究个透，wysunny兄说得很对
主要问题是尺寸定义，定义得好才能生成符合要求的！
版主能不能给分呀？

作者: baojian 时间: 2002-4-16 23:35
WYSUNNY:
请问这为何不能阵列?

作者: baojian 时间: 2002-4-17 09:45
这样做可以, 选择参考尺寸很重要。

作者: wysunny 时间: 2002-4-17 12:09

baojian wrote:
WYSUNNY:
请问这为何不能阵列?

你注意看一下：如图是你第一个突起特征定义是的参考，按你的定义方式，并没有用上一步做出的参考点做参考，这样此突起与该参考点并无什么关系，如何能做出阵列？

作者: 语无伦次 时间: 2002-4-17 17:25
我的步骤如下：
1.用偏距作一凸筋。(sketch时建一个参考面)。
2.再阵列即可。

作者: baojian 时间: 2002-4-19 20:49
请问这样用角度做阵列为何不行？

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