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标题:
可变剖面扫描曲面过程问题
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作者:
hwapin
时间:
2007-6-26 16:36
标题:
可变剖面扫描曲面过程问题
在购书中心买了两本书学习Pro/E几天了,现在还不能灵活的运用。在学习过程中发现两个问题,请教各位前辈们:
1、”可变剖面扫描是特征剖面沿着轨迹线扫描而成的曲面,剖面的形状随着轨迹的变化而变化。“
这句话中的变化的运算依据是什么(算法是什么)?
2、”可变剖面扫描需要定义一个剖面外,还涉及到多条轨迹,这些轨迹分别为:一条原始轨迹、一条X轨迹、多条一般轨迹。“
这句话中各个轨迹的作用是什么?各个轨迹有什么要求?
以上两个问题请教,望不惜赐教!
作者:
aqb3322
时间:
2007-6-26 16:58
其实解释起来很费劲。。
你试一试各种都乱来一下。应该可以发现其中的规律。
期待可以解释的高手、
作者:
hwapin
时间:
2007-6-26 17:16
谢谢,我也尝试过乱画,但是没有成功。
期待前辈们解析!!
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